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小型反shentou设备-EDI设备
hua工shui处理设备-EDI设备
hua工shui处理设备-EDI设备
是电shen析技术与离子交换技术de结he,tong过阴离子和yang离子交换膜de选择性shentou与离子交换shu脂de交换作yong。zai直流电场de作yong下,实现离子迁移,实现shuideshen度除yan。同时,shui分离产生de氢离子和氢yanghua物离子交换shu脂。yinci,无需酸碱hua学再生即ke连续生产纯shui。EDI工作yuan理1. RO产shui进入EDI模块后被均yun地分配daodanshui室中。2. RO膜

    hua工shui处理设备-EDI设备是电shen析技术与离子交换技术de结he,tong过阴离子和yang离子交换膜de选择性shentou与离子交换shu脂de交换作yong。zai直流电场de作yong下,实现离子迁移,实现shuideshen度除yan。同时,shui分离产生de氢离子和氢yanghua物离子交换shu脂。yinci,无需酸碱hua学再生即ke连续生产纯shui。

    hua工shui处理设备-EDI设备工作yuan理:

    1.RO产生deshuizai进入EDI模块后均yun地分buzaidanshui室中。

    2.zaidanshui室中,未从RO膜中去除de微量离子被离子交换shu脂吸附zaiRO膜表mian。

    3.zaiEDI模块两端de电极shang加直流电,驱动danshui室中de阴离子和yang离子迁移dao浓缩shui室中de相应电极以产生高纯shui。

    4.zai电场de作yong下,shui分子大量电离成H+和OH,离子交换shu脂bu断再生。

    EDI进shui条件:

    shui源:反shentouRO产shui

    电导率:≤20μS/cm

    电导率:2-10μS/cm

    电导率:≤50Μs/cm

    PH值:6-8

    温度:5℃-38℃

    进shui压力:0.2-0.6MPa

    ying度:小于0.5ppm(以CaCO3计)

    硅:小于0.5ppm(SiO2计)

 


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